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UV紫外曝光系統(tǒng)
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UV紫外曝光系統(tǒng)

多波長(zhǎng)光源UVW25紫外曝光機(jī)


 


簡(jiǎn)易的紫外線腔室柜
該紫外線腔室工具集中于一點(diǎn):光致抗蝕層的UV曝光。這是一個(gè)使用UV LED工作的便攜簡(jiǎn)易設(shè)備,可確保較長(zhǎng)的使用壽命及完美的中心曝光波長(zhǎng),且無(wú)需加熱或冷卻時(shí)間。您可以對(duì)設(shè)備的曝光功率和曝光時(shí)間這兩個(gè)主要參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié),以有效地加工微流體模具。

●  可編程的功率和曝光時(shí)間
●  簡(jiǎn)易的遮罩位置
●  快速且易于使用
●  不需要潔凈室

優(yōu)勢(shì)
●  <15°的準(zhǔn)直良好的光線
●  可編程的照明功率和曝光時(shí)間
●  可切換的UV LED光源(365nm,385nm,395nm,405nm)
●  提供軟光刻工藝的技術(shù)文檔和知識(shí)

價(jià)格低廉的簡(jiǎn)易曝光設(shè)備
使用UVW25曝光機(jī),操作簡(jiǎn)單且高效。主要目標(biāo)是使您的光刻膠暴露在所選的紫外光線下。

技術(shù)支持
我們對(duì)提供的所有設(shè)備均提供高水平的支持,同時(shí)也為曝光前后的相關(guān)微加工步驟提供支持。我們不僅可以幫助您完成加工流程的一部分,同時(shí)還可以在整個(gè)流程中為您提供指導(dǎo)。

技術(shù)規(guī)格
●  集成紫外線燈的UVW25曝光機(jī),提供365nm、385nm、395nm或405nm四種不同的波長(zhǎng)選擇,以適應(yīng)各種光刻膠。
●  UVW25曝光機(jī)具有90%以上的曝光均勻性和15°以下的準(zhǔn)直角
●  標(biāo)稱曝光功率為250mW/cm2,但可以在20%至100%之間進(jìn)行調(diào)節(jié)
●  托盤尺寸為300×300mm,因此可用于曝光6英寸的基材。
●  托盤可以通過(guò)5個(gè)不同的位置移開或移近紫外燈(它將定義典型的功率和暴露在表面上的區(qū)域),該位置有5個(gè)不同的位置:距離UV LED燈的發(fā)射窗口5/10/15/20/或25cm。
●  UVW25的正面有一個(gè)安全窗口,可以在曝光期間無(wú)風(fēng)險(xiǎn)地看到曝光過(guò)程。


相關(guān):
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